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半导体级高浓度臭氧水系统

半导体级高浓度臭氧水系统专为半导体行业应用而开发设计,系统采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术,选用高品质、超纯耐臭氧材料,实现为半导体行业应用提供超洁净、高浓度臭氧水。

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产品特点

臭氧水输出稳定

超纯高效混合与控制技术

臭氧浓度输出速度快

超纯材料工艺制造

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