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半导体级高浓度臭氧水发生器

半导体级高浓度臭氧水发生器专为半导体行业应用而开发设计,采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术,选用高品质、超纯耐臭氧材料,实现为半导体行业应用提供超洁净、高浓度臭氧水。 

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产品特点

臭氧水输出稳定,臭氧水流量可控、可调,流量范围可实现0.5-150L/min不同规格的输出

应用超纯高效混合与控制技术,臭氧水溶浓度实现5-150ppm,内置臭氧水浓度检测装置

臭氧浓度输出响应速度快,输出臭氧水压力15-51psi

采用超纯发生技术与超纯材料及工艺制造,避免、减少金属污染及析出

设备具有互锁、联动保护功能,发生异常及时进行有效警示与保护

设备可与外部进行RS485通讯,实现数据传送以及进行远程控制

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  • 专家贴心服务

    我们与国内的臭氧运行及

    应用技术专家长效合作

  • 升级改造服务

    协同您对臭氧发生系统中

    相关设备进行升级改造

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