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臭氧气体输送系统,可产生超纯、可靠的臭氧气体。在清洁的半导体环境中,借助臭氧气体反应实现原子层沉积 (ALD) 和蚀刻 (ALE) 等薄膜沉积工艺。高纯度、高浓度臭氧气体能够产生更高的薄膜密度,从而提高产品产量、产品性能和可靠性。
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臭氧浓度高
气体流量高
采用超纯发生技术
无氮气掺加技术
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